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2023光刻機市場現狀調查及全球市場份額占比

光刻機行業(yè)屬于明顯的寡頭壟斷格局,前三供應商(荷蘭阿斯麥、日本佳能、日本尼康)占據絕大多數市場份額。從營收來看,尼康占比84%,佳能占比9%,阿斯麥占比7%。

伴隨著半導體的應用范圍日益廣泛,光刻機的市場需求不斷上升。光刻機是半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一。全球光刻機市場規(guī)模超230億美元,ASML處于絕對領先,國內市場規(guī)模超200億元,但是國產化率僅2.5%。中國光刻機處于核心“卡脖子”狀態(tài)。

根據中研普華研究院撰寫的《2023-2028年光刻機市場發(fā)展現狀調查及供需格局分析預測報告》顯示:

2023光刻機市場現狀調查及全球市場份額占比

半導體是光刻機的主要應用領域之一,中國政府出臺一系列政策支持半導體產業(yè),包括資金支持、稅收優(yōu)惠等,刺激了國內半導體制造業(yè)的發(fā)展,進而推動了光刻機市場規(guī)模的上漲。2022年中國光刻機行業(yè)市場規(guī)模約為147.82億元。從區(qū)域分布來看,中國光刻機行業(yè)華東地區(qū)占比最重,占比為51.8%。

根據數據顯示,2022年中國光刻機產量約為95臺,需求量約為652臺。光刻機的研發(fā)、制造和維護成本較高,特別是高性能光刻機。然而,在市場競爭加劇的情況下,制造商為了降低成本和提高競爭力,不得不考慮降低價格。這導致了市場均價的下降。2022年中國光刻機均價約為2267.2萬元/臺

光刻機是一種極其復雜的機器,集電子、電氣、光學、機械、物理、計算、材料等眾多學科為一體。光刻機內部構造復雜,由大量零部件組成,需要來自全球的供應鏈伙伴提供。

公開資料顯示,2019年以來,阿斯麥的EUV光刻機對華出口已受到限制,這一系統(tǒng)可以支持3納米芯片制造,如蘋果的A17 Pro芯片。今年9月起,荷蘭政府關于半導體設備的出口管制新規(guī)正式生效,阿斯麥部分先進的浸潤式DUV(深紫外線)光刻機出口需申請許可證。不過,阿斯麥日前表示,荷蘭政府已允許該公司在今年繼續(xù)發(fā)運前述被列入出口管制新規(guī)的光刻機。

阿斯麥每年均投入大量資金開展研發(fā)。2022年全年,阿斯麥研發(fā)投入超過33億歐元,約占凈銷售的15.6%。2023年的研發(fā)投入預計將達到銷售額的20%左右。

光刻機產業(yè)鏈

光刻機主要作用是通過包含器件結構信息的圖型化掩膜版及光刻膠,在半導體材料表面形成一定形狀的器件結構,前道光刻機和后道光刻機雖然都是光刻機,但工藝、用途不一樣,前者用于器件成型,后者做金屬電極接觸。

光刻機產業(yè)鏈主要包括上游設備及配套材料、中游光刻機系統(tǒng)集成和生產及下游光刻機應用三大環(huán)節(jié),技術極為復雜,涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術,部分機型所需的零部件更是多達數十萬件,因此光刻機的生產通常涉及上千家供應商。

其中,光刻機上游國內代表企業(yè)包括福晶科技、奧普光電、南大光電、容大感光、華潤微、精測電子、芯源微、菲利華、清溢光電、茂萊光學、美??萍嫉?。

光刻機市場份額

光刻機的品牌眾多,根據采用不同技術路線的可以歸納成如下幾類:高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業(yè)之花,其制造難度之大,全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國),日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。

光刻機行業(yè)屬于明顯的寡頭壟斷格局,前三供應商(荷蘭阿斯麥、日本佳能、日本尼康)占據絕大多數市場份額。從營收來看,尼康占比84%,佳能占比9%,阿斯麥占比7%。2022年光刻機市占率按出貨量來看 ,阿斯麥占比63%排名第一,佳能占比32%排名第二,尼康占比5%排名第三。

目前,全球光刻機市場被荷蘭的ASML、日本的佳能和Nikon三家公司壟斷,其中更是擁有極紫外光(EUV)光刻機的專利技術,可以制造出7納米以下的先進芯片。

在激烈的市場競爭中,企業(yè)及投資者能否做出適時有效的市場決策是制勝的關鍵。中研網撰寫的光刻機行業(yè)報告對中國光刻機行業(yè)的發(fā)展現狀、競爭格局及市場供需形勢進行了具體分析,并從行業(yè)的政策環(huán)境、經濟環(huán)境、社會環(huán)境及技術環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機遇及挑戰(zhàn)。同時揭示了光刻機市場潛在需求與潛在機會,為戰(zhàn)略投資者選擇恰當的投資時機和公司領導層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準確的市場情報信息及科學的決策依據,同時對政府部門也具有極大的參考價值。

未來市場發(fā)展如何?想了解關于更多光刻機行業(yè)專業(yè)分析,可點擊查看中研普華研究院撰寫的《2023-2028年光刻機市場發(fā)展現狀調查及供需格局分析預測報告》。

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