高純氧氣可在半導體蝕刻工藝中產(chǎn)生氧化物層,高純氮氣可用于真空泵及排放系統(tǒng)的吹掃等。
氣體是半導體制造的一個重要組成部分,因為氣體可以產(chǎn)生塑造半導體電氣特性所需的化學反應。半導體行業(yè)在全球范圍內(nèi)是一個巨大的產(chǎn)業(yè),并且每年都在持續(xù)增長,這意味著對高純氣體的需求也將隨之增長。高純氧氣可在半導體蝕刻工藝中產(chǎn)生氧化物層,高純氮氣可用于真空泵及排放系統(tǒng)的吹掃等。
根據(jù)中研普華研究院撰寫的《2023-2028年全球與中國高純氣體行業(yè)市場調(diào)研及發(fā)展趨勢分析報告》顯示:
高純氣體市場調(diào)研 2023高純氣體行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀前景分析
隨著燃料電池產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,氫能將擁有廣闊的市場空間。濰坊高純大宗項目主要涉及常用大宗氣體,包括高純氧氣、氮氣、氬氣等,大宗氣體的市場空間大于特種氣體,可應用于機械加工、鋼鐵冶煉等傳統(tǒng)工業(yè),同時在電子及半導體這一高速成長領(lǐng)域也具備較大市場需求。
隨著半導體行業(yè)的不斷發(fā)展和演變,在這個過程中使用的氣體也在不斷增加。使用的一些核心氣體包括氮氣、氧氣、氬氣和氫氣,我們將深入解釋它們在制造過程中的作用。
氧氣是一種氧化劑,這使得它對創(chuàng)造沉積反應至關(guān)重要。它被用來生長氧化硅層,用于工藝中的各種元素,例如擴散掩膜。當在半導體制造中使用氧氣時,氣體必須是超高純度的,以防止任何雜質(zhì),這些雜質(zhì)可能會對設(shè)備生產(chǎn)和性能造成損害。
氬氣主要用于紫外光刻激光器的沉積和蝕刻過程,這些激光器被用來在半導體芯片上制作最小的圖案。在制造所需的硅片期間,氬氣被用來保護在硅片上形成的硅晶體,使其在高溫下生長過程中不會與氧氣和氮氣發(fā)生任何潛在的反應。
由于需求增加,氫氣在半導體制造中的使用可能會增加。特別是在光刻階段,氫氣被用來與化學品錫反應,以產(chǎn)生氫化錫。需要氫化錫,以便它不會積聚在昂貴的光學器件上。氫氣被用來創(chuàng)造一個新的氧化層,以修改已經(jīng)存在的薄膜。這一過程是在高壓和高溫環(huán)境下進行的,這意味著對流速、溫度和壓力的控制極為重要。此外,氫氣也被用于摻雜階段,以幫助控制分解,因為用于這一過程的氣體是非常有毒的。以至于它們需要被儲存在能夠防止泄漏的設(shè)備中。
由于我國工業(yè)氣體起步時間較晚、第三方氣體供應商較為分散等原因,部分地區(qū)下游廠商的氣體需求仍無法得到充分滿足。本次募投項目可緩解下游高端制造產(chǎn)業(yè)的電子氣體需求。
氣體行業(yè)屬于朝陽行業(yè),屬于百年興旺的行業(yè),氣體市場前景廣闊,發(fā)展空間巨大,氣體行業(yè)已誕生出上萬億元市值的氣體公司。
濰坊高純大宗項目所處園區(qū)的企業(yè)有大量氧氣、氮氣、氬氣等高純度大宗氣體的需求,除了濰坊當?shù)厣贁?shù)已有的氣體公司生產(chǎn)供應外,仍有較大供給缺口。本次濰坊高純大宗項目投產(chǎn)后,公司將有效緩解項目周邊地區(qū)氣體短缺的局面。
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